2m/min以下の移動速度で移動する液晶基盤を連続で完全乾燥します。厳密に制御された均一でシャープなCDA露点温度-80℃の超乾燥空気を液晶基盤表面に当て、1次・2次乾燥工程で基盤表面およびパターン周辺部に残る微小水分を完全に乾燥させます。

• 露点温度-80℃の超乾燥空気(CDA)による常温乾燥方式。
• 移動速度2m/min以下の高速連続乾燥に対応。
• 熱を使用しないので、引火による火災等の心配もなく安全。
• 装置サイズが小さく冷却時間も不要。
• 製造ラインの省スペース化に寄与。
• 装置全体の電力も少なく、低ランニングコスト。
• 各部をユニット化し、信頼性を確保。スペアパーツや保守部品点数も最小化しました。定期点検も迅速で容易。
  
  ※露点温度-80℃とは=その空気を冷却してゆき-80℃になった時にはじめてその空気が結露する状態を示します。